光刻晶圆_半导体应用_产品中心_浙江亿万先生股份有限公司

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技术规格展示

制造		能力及精度
光刻胶涂装	旋涂	胶厚gps精度≤3%（适用性于立体图）
光刻胶涂布	喷塑	胶厚定位精度≤10%（可应用于平面磨/各个凹凸面）
光刻		计算精度 2um套准高精准度：0.15um
定影		准确度2um显影液平均性<5%
蚀刻		尺寸散差 ±1um

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